Respuesta fotovoltaica pronunciada del fototransistor MoTe2 multicapa con formulario de contacto asimétrico
Resumen
En este estudio, fabricamos MoTe 2 multicapa de tipo p estable al aire fototransistor que usa Au como electrodos, que muestra una respuesta fotovoltaica pronunciada en estado apagado con forma de contacto asimétrica. Al analizar la fotorrespuesta resuelta espacialmente utilizando microscopía de fotocorriente de barrido, encontramos que los pasos potenciales se forman en las proximidades de los electrodos / MoTe 2 interfaz debido al dopaje del MoTe 2 por los contactos metálicos. El paso de potencial domina la separación de pares de electrones-huecos fotoexcitados en condición de cortocircuito o con pequeños V sd tendencioso. Con base en estos hallazgos, inferimos que la sección transversal de contacto asimétrico entre MoTe 2 -source y MoTe 2 -Los electrodos de drenaje son la razón para formar una corriente neta distinta de cero y una respuesta fotovoltaica. Además, MoTe 2 El fototransistor muestra una respuesta más rápida en condiciones de cortocircuito que con una V de mayor polarización. sd dentro de un submilisegundo, y su rango espectral puede extenderse hasta el extremo infrarrojo de 1550 nm.
Antecedentes
El grafeno y materiales bidimensionales (2D) similares existen a granel como pilas de capas fuertemente unidas con una atracción entre capas débil, lo que permite exfoliarse en capas individuales, atómicamente delgadas, que han abierto nuevas posibilidades para la exploración de la física 2D como así como la de aplicaciones de nuevos materiales [1,2,3,4,5,6,7,8,9]. De ellos, los dicalcogenuros de metales de transición semiconductores (TMD) con la fórmula común MX 2 , donde M representa un metal de transición del grupo VI (M =Mo, W) y X para un elemento calcógeno (S, Se, Te), exhiben bandgaps considerables [2, 3, 10, 11]. Además, estas escamas 2D TMD son flexibles y no tienen enlaces colgantes entre capas adyacentes [12, 13]. Estas propiedades únicas hacen que los TMD sean candidatos prometedores para construir dispositivos electrónicos y optoelectrónicos [2, 3, 4, 14, 15, 16, 17], como un transistor de efecto de campo (FET) de próxima generación a menos de 10 nm [18] , diodos emisores de luz en chip [19,20,21] y dispositivos de heteroestructura de Van der Waals [4, 5].
Ditelurida de molibdeno de tipo 2H (2H-MoTe 2 ) es uno de los TMD 2D típicos, que tiene una banda prohibida indirecta de 0,83 eV en forma masiva [22] y una banda prohibida directa de 1,1 eV cuando se adelgaza a monocapa [23]. 2H-MoTe 2 ha sido explorado para aplicaciones en espintrónica [24], FET [25,26,27], fotodetector [28,29,30,31,32] y células solares [33]. Como la mayoría de los materiales 2D, los contactos metálicos eléctricos con 2H-MoTe 2 juegan un papel importante en la realización de dispositivos electrónicos y optoelectrónicos de alto rendimiento. Se ha demostrado que el dopaje de contacto de tipo py el tipo n y el contacto de ohmios se pueden realizar utilizando materiales de contacto adecuados [34,35,36,37,38,39,40], y pueden, a su vez, utilizarse para construir dispositivos funcionales, como fotodetectores fotovoltaicos [37, 38] y diodos [37]. Hasta ahora, el enfoque de la investigación se ha concentrado en evaluar y estudiar los contactos metal-semiconductores comparando varios materiales de electrodos, pero no se ha prestado suficiente atención a la comparación en profundidad de las formas de contacto metal-semiconductores, por ejemplo, el mismo material de contacto con asimétrico. sección transversal de contacto.
En este estudio, fabricamos MoTe 2 multicapa de tipo p estable al aire fototransistor con sección transversal de contacto asimétrica entre MoTe 2 -source y MoTe 2 -drene los electrodos e investigue su fotorrespuesta utilizando la fotocorriente de barrido a diferentes voltajes de puerta y fuente-drenaje. Este estudio ayuda a revelar los perfiles de potencial espacial y analizar el impacto del contacto en el dispositivo. Los datos experimentales muestran que el dispositivo tiene una fotocorriente neta distinta de cero en condiciones de cortocircuito y respuesta fotovoltaica. El mapa de fotocorriente de escaneo revela que se genera una fuerte fotocorriente en las proximidades de la interfaz de contacto en condiciones de cortocircuito o con una pequeña tensión de fuente-drenaje ( V sd ) sesgado, lo que indica que los pasos potenciales se forman en las proximidades de los electrodos / MoTe 2 interfaz debido al dopaje del MoTe 2 por los contactos metálicos. Cuando el voltaje polarizado V sd se eleva por encima del escalón potencial, V sd domina la separación de pares de electrones-huecos fotoexcitados y fotocorriente ( I PC =yo sd - yo oscuro ) aparece pico en el centro del canal del dispositivo. Esto indica la sección transversal de contacto asimétrica entre MoTe 2 -source y MoTe 2 -Los electrodos de drenaje son la razón para formar una corriente neta distinta de cero y una respuesta fotovoltaica. Este hallazgo es útil para construir fotodetectores fotovoltaicos con bajo consumo de energía. Finalmente, probamos la fotocorriente resuelta en el tiempo y dependiente de la longitud de onda de MoTe 2 fototransistor, obteniendo un tiempo de respuesta submilisegundo y encontrando que su rango espectral puede extenderse hasta el extremo infrarrojo de 1550 nm.
Resultados y discusión
Fabricamos dos MoTe 2 multicapa con puerta trasera fototransistores (D1 y D2) y medir su fotorrespuesta. El dispositivo se identifica mediante un microscopio óptico y el correspondiente MoTe 2 el espesor y la calidad se caracterizan mediante microscopía de fuerza atómica (AFM) y espectro Raman. Todas las mediciones se realizan en condiciones ambientales. La figura 1a muestra la imagen óptica (izquierda) y la imagen AFM (derecha) de D1 (D2 se muestra en el archivo adicional 1:Figura S1. Los siguientes datos se recopilan de D1 a menos que se especifique lo contrario, y los datos de D2 se muestran en el archivo adicional 1). El dispositivo consta de un electrodo fuente, un electrodo de drenaje y una muestra de canal de MoTe 2 multicapa en SiO 2 / p + -Si sustrato. SiO 2 película con un espesor de 300 nm es dieléctrica y p + -Si funciona como electrodo de puerta trasera. Los detalles de D1 se caracterizan mediante AFM, que muestra que MoTe 2 multicapa se extiende a ambos lados de los electrodos de fuente y drenaje. La longitud del canal es de 10 μm. MoTe 2 la muestra en el canal tiene un grosor de aproximadamente 23 nm (el perfil de altura se muestra en el archivo adicional 1:Figura S2), y los anchos de MoTe 2 -source y MoTe 2 -La sección transversal de contacto de drenaje es de 6,5 y 4,8 μm, respectivamente. La Figura 1b muestra el espectro Raman de MoTe 2 muestra. Las características de los modos activos Raman de A 1g (172 cm −1 ), E 1 2g (233 cm −1 ) y B 1 2g (289 cm −1 ) se observan claramente, lo que confirma la buena calidad de MoTe 2 en el canal.
un Imagen óptica e imagen AFM de MoTe 2 multicapa fototransistor. Las barras de escala son de 5 μm. b Espectro Raman de MoTe 2 multicapa fototransistor con excitación láser de 514 nm. c Transferir características y d características de salida de MoTe 2 multicapa fototransistor
La medición eléctrica indica que el MoTe 2 de varias capas El fototransistor es de tipo p como se muestra en la Fig. 1c, que está en estado encendido con voltaje de puerta negativo y en estado apagado con voltaje de puerta positivo. La relación actual de encendido y apagado es de 6,8 × 10 3 cuando el voltaje fuente-drenaje V sd es 1 V. La movilidad del efecto de campo (μ) es 14,8 cm 2 / V s según características de transferencia. Cuando el voltaje polarizado V sd disminuye de 1 V a 100 mV, tanto en corriente como fuera de corriente disminuyen, y la relación de encendido y apagado sigue estando por encima de 6,0 × 10 3 , como se muestra en el archivo adicional 1:Figura S3 (a) y (b). Cuando el voltaje de la puerta pasa de - 20 a 20 V y luego vuelve a - 20 V, MoTe de múltiples capas 2 El fototransistor muestra una pequeña histéresis (consulte el archivo adicional 1:Figura S3 (c)) y conductancia de tipo p estable al aire, que se beneficia del proceso de fabricación simple y MoTe 2 sin polímero muestra. También fabricamos otros MoTe 2 de varias capas fototransistor con un espesor de 5, 10, 11, 12, 15,7 y 38 nm, respectivamente, como se muestra en el archivo adicional 1:Figura S4. Todos muestran conductancia de tipo p estable al aire. La Figura 1d muestra las características de salida de MoTe 2 multicapa transistor como voltaje de puerta trasera ( V bg ) varía de - 20 a 4 V. Como se ve, la respuesta es esencialmente lineal, especialmente a un voltaje polarizado bajo de V sd , lo que indica que existe una barrera de Schottky baja entre Au y MoTe 2 en el aire.
La Figura 2 muestra la fotorrespuesta de MoTe 2 multicapa fototransistor cuando está iluminado por láser de onda continua de 637 nm en condiciones ambientales, que se realiza combinando el analizador de semiconductores Agilent B1500A con la estación de sonda Lakeshore. El tamaño del punto láser es superior a 200 μm de diámetro y el dispositivo está cubierto con una intensidad de iluminación uniforme. La fotorrespuesta dependiente de la puerta trasera y dependiente de la energía se muestra en el archivo adicional 1:Figura S5. Como se muestra en la Fig. 2a, cuando un voltaje de puerta trasera es 0 V, la corriente de fuente-drenaje ( I sd ) aumenta con la potencia del láser. yo sd frente a V sd las curvas a diferentes niveles de potencia de iluminación se encuentran en V sd =0 V, que se observa claramente en una gráfica logarítmica de | I sd | mostrado en la Figura insertada de la Fig. 2a. Cuando V bg =5 V, el fototransistor está en estado desactivado (ver Fig. 1c) y la corriente de I sd aumenta con la potencia del láser de iluminación, mostrando un comportamiento no lineal claro, como se muestra en la Fig. 2b. Además, el fototransistor muestra un voltaje de circuito abierto distinto de cero ( V OC ) y corriente de cortocircuito ( I SC ) con iluminación láser, que es la evidencia de la respuesta fotovoltaica de MoTe 2 multicapa fototransistor. La figura 2c muestra V OC y yo SC en función del poder de iluminación. V OC permanece sin cambios a 50 mV (la potencia de iluminación es superior a 500 μW), y | I SC | aumenta de 0 a 1,6 nA cuando la potencia del láser aumenta de 0 a 4175 μW. Cuando cambiamos la dirección del voltaje, V OC y yo SC permanecen sin cambios como se muestra en la Fig. 2d. V sd representa el voltaje cargado en el electrodo fuente y V ds se carga en el electrodo de drenaje, y la corriente correspondiente se indica con I sd y yo ds , respectivamente. La imagen de inserción en la Fig. 2d ilustra la dirección del voltaje y la corriente. Ya sea que el voltaje se cargue en la fuente o en el electrodo de drenaje, el V OC de 50 mV en relación con el voltaje de la fuente y el I correspondiente SC de 680 pA que fluyen desde el electrodo de drenaje al electrodo fuente, ambos permanecen sin cambios. Esto confirma la respuesta fotovoltaica de MoTe 2 multicapa fototransistor.
Respuesta fotográfica de MoTe 2 multicapa fototransistor iluminado por láser de longitud de onda de 637 nm en condiciones ambientales. un yo sd frente a V sd curvas en V bg =0 V a medida que aumenta la potencia de iluminación. b yo sd frente a V sd curvas en V bg =5 V a medida que aumenta la potencia de iluminación. c V OC y yo SC en función del poder de iluminación. d Corriente de salida para voltaje polarizado cargado en la fuente y el electrodo de drenaje, respectivamente
Con el fin de revelar el mecanismo de la fotorrespuesta, especialmente la respuesta fotovoltaica, realizamos un estudio de microscopía de fotocorriente de barrido (SPCM), que ayuda a obtener los perfiles de potencial espacial y a analizar la fotorrespuesta resuelta espacialmente. La SPCM se realiza utilizando una configuración de fotocorriente de escaneo casera en condiciones ambientales. La excitación óptica es proporcionada por el láser de luz blanca supercontinua SuperK EXTREME. Su longitud de onda varía de 400 a 2400 nm. El haz, con longitud de onda ajustable usando el filtro sintonizable multilínea SuperK SELECT, se enfoca en el dispositivo usando una lente objetivo de 20 ×. Se utiliza un sistema de posicionamiento de espejo de galvanómetro para hacer que el rayo láser escanee el dispositivo para obtener mapas de fotocorriente. La luz reflejada y la fotocorriente se registran con un preamplificador de corriente y un amplificador de bloqueo a una frecuencia de corte de 1 KHz.
La Figura 3 muestra la fotocorriente de barrido de D1 con una longitud de onda de excitación de 1200 nm. El diámetro del punto láser es de aproximadamente 4,4 μm derivado de la imagen de reflexión (consulte el archivo adicional 1:Figura S7). La figura 3a muestra la imagen óptica, junto con la configuración eléctrica. yo PC Las mediciones se realizan en condiciones de cortocircuito, en las que el electrodo fuente está conectado a tierra y I PC se recoge del electrodo de drenaje. La corriente que fluye desde la fuente al electrodo de drenaje es positiva. La Figura 3b muestra una imagen de fotocorriente resuelta espacialmente recolectada en el voltaje de la puerta ( V bg ) de - 5, 0 y 5 V, respectivamente. Se puede ver que el cortocircuito I PC con polaridades opuestas es fuerte en la vecindad de las interfaces entre MoTe 2 y los electrodos. Cuando V bg cambia de - 5 a 0 V, I PC el patrón permanece sin cambios pero la intensidad disminuye. V bg se aumenta aún más a 5 V; yo PC no solo cambia la polaridad, la posición de máximo I PC también se aleja de la interfaz de contacto y entra en el canal. La figura 3c muestra la I PC perfil tomado de la línea discontinua negra en la Fig. 3b en V bg =- 5, 0 y 5 V, respectivamente. Demuestra claramente que yo PC tiene un pico de intensidad amplio cerca de la interfaz entre MoTe 2 y electrodos en V bg =- 5 y 0 V, mientras que el pico se mueve hacia el canal, que está a unos 3 μm de la interfaz de contacto y se vuelve más estrecho.
Imágenes de fotocorriente de resolución espacial de D1 en función del voltaje de la puerta. un La imagen óptica junto con la configuración eléctrica. b Imágenes de fotocorriente con resolución espacial en V bg =- 5, 0 y 5 V, respectivamente. c yo PC perfil recogido de la línea punteada negra en la Fig. 3b. d Perfiles potenciales correspondientes en V bg =- 5, 0 y 5 V, respectivamente. Las barras de escala son de 5 μm en todas las cifras
La presencia de yo PC picos indica la existencia de pasos potenciales en condición de cortocircuito. Según el I PC distribución, trazamos el perfil de potencial correspondiente a lo largo del canal del dispositivo como se muestra en la Fig. 3d. En V bg =- 5 y 0 V, los pasos potenciales están cerca de la interfaz de contacto entre MoTe 2 y electrodos, y se mueven hacia el canal en V bg =5 V. Según el estudio anterior [41], el contacto del electrodo de Au introduce el dopaje p y fija el nivel de Fermi de MoTe 2 en la parte de contacto. Por lo tanto, los pasos potenciales se forman en las proximidades del electrodo / MoTe 2 interfaz, ya que el nivel de Fermi en el canal está modulado por el voltaje de la puerta. En V bg =0 V, un I débil PC se observa, que fluye desde el electrodo a MoTe 2 canal. Significa que los electrones fotoexcitados se desplazan al electrodo cercano y los agujeros a MoTe 2 canal. En V bg =- 5 V, la densidad del agujero en MoTe 2 El canal se mejora e induce un paso de potencial más grande en la vecindad del electrodo / MoTe 2 interfaz. Los pares de electrones-huecos fotoexcitados se pueden separar eficazmente y I PC aumenta. Cuando V bg =5 V, se inyectan más electrones en el MoTe 2 canal, y se forma un pozo potencial en el canal. Debido a la electrostática del electrodo, los pasos potenciales se alejan del electrodo y aparecen en el canal. Los electrones fotoexcitados se desplazan hacia el MoTe 2 canal y agujeros hacia el electrodo cercano. yo PC cambia de dirección en comparación con la de V bg =- 5 y 0 V.
La Figura 4 muestra el I resuelto espacialmente PC en diferentes V sd como V bg =0 y 5 V, respectivamente. La figura 4a muestra la imagen óptica, junto con la configuración eléctrica. V sd se carga en el electrodo fuente, y I PC se recoge del electrodo de drenaje. La corriente que fluye desde la fuente al electrodo de drenaje es positiva. La figura 4b muestra I PC en función de V sd en V bg =0 V. Cuando V sd =0, - 0.01 y 0.01 V, fuerte I PC ocurre en las cercanías de MoTe 2 / interfaz de electrodos, luego se mueve hacia el centro del canal como V sd aumenta a 0,1 V. Se observa una tendencia similar en V bg =5 V como V sd aumenta como se muestra en la Fig. 4c. La figura 4d muestra un I claro PC pico en el centro del canal del dispositivo como V sd aumenta a 0,5 V. I PC Los perfiles tomados a lo largo de la línea discontinua negra en la Fig. 4a se muestran en la Fig. 4e, f, que muestran claramente la I PC tendencia de variación como V sd aumenta. Ambos indican el máximo I PC generado en las proximidades de la interfaz de contacto en condición de cortocircuito o con una pequeña V sd tendencioso. Cuando aumenta el voltaje polarizado, el pico de fotocorriente se mueve hacia el centro del canal del dispositivo.
Imágenes de fotocorriente de resolución espacial de D1 en función de V sd . un La imagen óptica junto con la configuración eléctrica. b Imágenes de fotocorriente con resolución espacial en V bg =0 V y V sd =- 0,1, 0,01, 0, 0,01 y 0,1 V, respectivamente. c Imágenes de fotocorriente con resolución espacial en V bg =5 V y V sd varía de - 0,1 a 0,1 V. d Imágenes de fotocorriente con resolución espacial en V bg =5 V y V sd =0,5 V. e yo PC perfil en V bg =0 V y f yo PC perfil en V bg =5 V tomado a lo largo de la línea discontinua en la Fig. 4a. Las barras de escala son de 5 μm en todas las cifras
Con base en estos hallazgos, sabemos que el paso de potencial, formado cerca de los electrodos / MoTe 2 interfaz debido al dopaje del MoTe 2 por los contactos metálicos, domina la separación de pares electrón-hueco fotoexcitados en condición de cortocircuito o con pequeños V sd tendencioso. Por lo tanto, yo PC en MoTe 2 -la fuente es más grande que la de MoTe 2 -drenaje debido a la interfaz de contacto más grande en MoTe 2 -fuente, y la corriente neta no es cero, mientras que la corriente neta distinta de cero es menor que I sd en V bg =- 5 y 0 V (en estado activado), y mayor que en V bg =5 V (en estado apagado). Por lo tanto, observamos claro I SC en V bg =5 V como se muestra en la Fig. 2b y archivo adicional 1:Figura S6 (b) - (f). Por lo tanto, tanto yo SC y la V correspondiente OC son el resultado del paso potencial y del contacto asimétrico. Además, fabricamos la muestra D2 con una sección transversal de contacto más asimétrica, como se muestra en el archivo adicional 1:Figura S1, en comparación con D1. Muestra una respuesta fotovoltaica similar, con V OC tan alto como 150 mV cuando V bg =5 V y la longitud de onda del láser de iluminación es de 637 nm. Cuando la longitud de onda de iluminación varía a 830, 940, 1064 y 1312 nm, D2 muestra una respuesta fotovoltaica similar en V bg =5 V (consulte el archivo adicional 1:Figura S6). También fabricamos otros cuatro dispositivos como se muestra en el archivo adicional 1:Figura S8, que demuestran un comportamiento similar al que se ha mostrado en D1 y D2. Estos datos confirman aún más que la respuesta fotovoltaica de MoTe 2 multicapa El fototransistor es el resultado de la sección transversal de contacto asimétrica entre MoTe 2 -source y MoTe 2 -electrodos de drenaje.
Finalmente, probamos el tiempo de fotorrespuesta y el rango espectral de MoTe 2 multicapa fototransistor. La figura 5a muestra la fotocorriente resuelta en el tiempo en V bg =5 V y V sd =0 y 1 V, respectivamente, que se registran mediante un preamplificador de corriente y un osciloscopio. El láser de excitación es una onda cuadrada con un ancho de 2 ms a una longitud de onda de 637 nm. Las corrientes recogidas bajo V sd =0 y 1 V muestran una dirección opuesta, lo cual es consistente con los datos dados en la Fig. 2b, y es el resultado de la diferencia entre V OC y V sd . El tiempo de subida y el tiempo de caída de la fotorrespuesta se definen como el tiempo entre el 10 y el 90% de la fotocorriente total. Como se ve, el tiempo de subida \ (\ left ({\ tau} _ {\ mathrm {subida}} ^ 0 \ right) \) es de 20 μs y el tiempo de caída \ (\ left (\ {\ tau} _ {\ mathrm {fall}} ^ 0 \ \ right) \) es 127 μs en V sd =0 V, y el tiempo de subida \ (\ left ({\ tau} _ {\ mathrm {subida}} ^ 1 \ right) \) es de 210 μs y el tiempo de caída \ (\ left ({\ tau} _ {\ mathrm {fall}} ^ 1 \ right) \) es 302 μs en V sd =1 V, que son ambos mayores que en V sd =0 V. Esto se debe al mecanismo diferente de generación de fotocorriente. En V sd =0 V, la fotocorriente potencial dominada por pasos se genera en la vecindad del electrodo / MoTe 2 interfaz. En V sd =1 V, la fotocorriente se genera en el canal del dispositivo, y los portadores fotoexcitados tienen que atravesar el canal para llegar al electrodo, lo que lleva más tiempo que la generación cerca del electrodo / MoTe 2 interfaz. Por lo tanto, el dispositivo muestra un tiempo de respuesta fotográfica más largo en V sd =1 V que en V sd =0 V. Además de trabajar en la banda visible, un MoTe 2 de varias capas El fototransistor tiene fotorrespuesta en la banda del infrarrojo cercano. La Figura 5b muestra que su fotorrespuesta se puede extender de 1200 a 1550 nm. La excitación óptica, proporcionada por el láser de luz blanca supercontinua SuperK EXTREME, se enfoca en el centro del canal del dispositivo utilizando una lente objetivo de 20 × con un diámetro de punto de 4,4 μm. Los datos indican que MoTe 2 multicapa El fototransistor se puede utilizar en la banda de comunicación.
Tiempo de fotorrespuesta y rango espectral de MoTe 2 multicapa fototransistor. un Fotocorriente resuelta en el tiempo en V bg =5 V y V sd =0 V (línea negra) y 1 V (línea roja), respectivamente. b Fotorespuesta a diferentes longitudes de onda de fotoexcitación
Conclusiones
En resumen, hemos fabricado MoTe 2 multicapa tipo p estable al aire fototransistor con forma de contacto asimétrica. Su fotorrespuesta se investiga utilizando la fotocorriente de exploración a diferentes voltajes de puerta y fuente-drenaje, lo que ayuda a revelar los perfiles de potencial espacial. Los resultados indican que el paso de potencial, formado cerca de los electrodos / MoTe 2 interfaz debido al dopaje del MoTe 2 por los contactos de metal, juega un papel importante en la separación de pares de agujeros de electrones fotoexcitados en condición de cortocircuito o con pequeños V sd tendencioso. La corriente neta no es cero cuando existe un paso potencial con una sección transversal de contacto asimétrica entre MoTe 2 -source y MoTe 2 -electrodos de drenaje. Cuando el voltaje polarizado V sd se eleva por encima del paso potencial, V sd domina la separación de pares de electrones-huecos fotoexcitados, y I PC aparece pico en el centro del canal del dispositivo. Además, MoTe 2 El fototransistor muestra una respuesta más rápida en condiciones de cortocircuito que con una V de mayor polarización. sd dentro de un submilisegundo, y su rango espectral puede extenderse hasta el extremo infrarrojo de 1550 nm.
Métodos / Experimental
MoTe 2 de múltiples capas con puerta trasera Los fototransistores se fabrican de la siguiente manera. Primero, los electrodos de fuente, drenaje y compuerta se modelan en SiO 2 de 300 nm / p + -Si sustrato utilizando técnicas estándar de fotolitografía UV, seguido de grabado selectivo de 300 nm SiO 2 debajo del electrodo de puerta y evaporación por haz E de películas de Cr / Au de 5 nm / 100 nm. En segundo lugar, el MoTe 2 de varias capas La muestra se prepara en otro SiO 2 de 300 nm / p + -Si sustrato por exfoliación mecánica de 2H-MoTe 2 semiconductor de tamaño mm monocristales, que se cultivan mediante transporte de vapor químico utilizando TeCl 4 como agente de transporte en un gradiente de temperatura de 750 a 700 ° C durante 3 días. Finalmente, el MoTe de múltiples capas preparado 2 La muestra se transfiere a electrodos de drenaje de fuente con patrón utilizando alcohol polivinílico (PVA) como medio. PVA se disuelve en H 2 O y se enjuaga con alcohol isopropílico. MoTe 2 de varias capas las muestras se identifican mediante un microscopio óptico y el espesor correspondiente se caracteriza mediante microscopía de fuerza atómica (AFM) SPA-300HV. Las señales Raman se recogen mediante un espectrómetro LabRAM HR Raman con excitación láser de longitud de onda de 514 nm en la configuración de retrodispersión utilizando un objetivo de 100 ×.
La caracterización eléctrica y la fotorrespuesta para la excitación láser de 637 nm se realizan combinando el analizador de semiconductores Agilent B1500A con la estación de sonda Lakeshore. El láser se ilumina sobre el dispositivo mediante fibra y el tamaño del punto es superior a 200 μm. La fotocorriente resuelta en el tiempo se registra utilizando un preamplificador de corriente DL1211 y un osciloscopio Keysight MSOX3024T. La fotocorriente de resolución espacial se realiza mediante una configuración casera. El láser de excitación lo proporciona el láser de luz blanca supercontinuo SuperK EXTREME con un accesorio de filtro sintonizable multilínea SuperK SELECT para ajustar la longitud de onda. La luz se enfoca en el dispositivo usando una lente objetivo de 20 × y se corta con SR570. La luz reflejada y la fotocorriente se registran con el preamplificador de corriente DL1211 y el amplificador de bloqueo SR830.
Abreviaturas
- 2D:
-
Bidimensional
- 2H-MoTe 2 :
-
Ditelurida de molibdeno tipo 2H
- AFM:
-
Microscopía de fuerza atómica
- FET:
-
Transistor de efecto de campo
- I PC :
-
Fotocorriente
- I SC :
-
Corriente de cortocircuito
- I sd :
-
Corriente de fuente-drenaje
- PVA:
-
Alcohol polivinílico
- TMD:
-
Dicalcogenuros de metales de transición
- V bg :
-
Voltaje de puerta trasera
- V OC :
-
Voltaje de circuito abierto
- V sd :
-
Voltaje de fuente-drenaje
- τ caer :
-
Tiempo de caída
- τ subir :
-
Tiempo de subida
Nanomateriales
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