Manipulación de la temperatura de sulfuración para sintetizar una película de nanoesferas de α-NiS para la conservación a largo plazo de sensores de glucosa no enzimáticos
Resumen
En este estudio, las películas de nanoesferas de sulfuro de níquel alfa (α-NiS) se han sintetizado con éxito mediante la galvanoplastia de la película de nanohojas de níquel sobre el sustrato de vidrio de óxido de indio y estaño (ITO) y el sustrato de vidrio de ITO recubierto de níquel sulfurado. En primer lugar, electrodepositamos las películas de nanohojas de níquel sobre los sustratos de vidrio ITO que se cortaron en un 2 de 0,5 × 1 cm. Talla. En segundo lugar, las películas de níquel en nanolamina se recocieron en ampollas de vidrio selladas al vacío con láminas de azufre a diferentes temperaturas de recocido (300, 400 y 500 ° C) durante 4 h en ampollas de vidrio selladas al vacío. Las películas de α-NiS se investigaron mediante el uso de difracción de rayos X (XRD), microscopía electrónica de barrido de vacío variable (VVSEM), microscopía electrónica de barrido de emisión de campo / espectrómetro de dispersión de energía (FE-SEM / EDS), voltamograma cíclico (CV), electroquímico espectroscopía de impedancia (EIS), espectros ultravioleta / visible / infrarrojo cercano (UV / Visible / NIR) y espectros de fotoluminiscencia (PL). Se observaron muchas nanoesferas en la superficie de las películas de α-NiS a una temperatura de recocido de 400 ° C durante 4 h. También utilizamos la microscopía electrónica de transmisión de alta resolución (HR-TEM) para el análisis de las nanoesferas α-NiS. Demostramos que nuestra película de nanoesferas de α-NiS tenía una respuesta de corriente lineal a diferentes concentraciones de glucosa. Además, nuestras películas de nanoesferas de α-NiS se conservaron a temperatura ambiente durante cinco años y medio y seguían siendo útiles para detectar glucosa a baja concentración.
Antecedentes
Durante la última década, se ha aceptado que el sulfuro de níquel (NiS) tiene buena conductividad. Se puede fundir como material de cátodo para baterías recargables de litio [1, 2, 3]. Además, el NiS se ha aplicado al almacenamiento solar [4, 5]. También se ha comprobado que tiene excelentes propiedades para su aplicación en fotocatalizadores [6, 7]. La película de NiS también se puede utilizar para sensores de glucosa no enzimáticos [8, 9]. En cuanto a la detección de glucosa, se han desarrollado muchos métodos de detección para detectar glucosa. Los métodos más utilizados e históricamente significativos incluyeron la yodometría de cobre, la cromatografía líquida de alta resolución (HPLC), la glucosa oxidasa (GC), la electroforesis de zona capilar (CZE) y el sensor de glucosa no enzimático [10]. Un sensor de glucosa no enzimático será una aplicación importante para la detección de glucosa en el futuro [11]. Estamos interesados en sintetizar películas de NiS e investigar este tipo de material para una de las aplicaciones importantes del sensor de glucosa no enzimático. En el estudio de conservación del sensor, el sensor de glucosa no enzimático puede conservarse más tiempo que el sensor de glucosa enzimático [12]. En este artículo, describiremos el proceso de síntesis de la película de α-NiS y demostraremos nuestras muestras que pueden usarse en la detección de glucosa mediante mediciones de voltamograma cíclico (CV) y amperometría. También descubrimos que no hubo informes sobre la conservación de sensores de glucosa no enzimáticos a temperatura ambiente durante cinco años y medio. En este artículo, demostramos que nuestras películas de nanoesferas de α-NiS se conservaron a temperatura ambiente en nuestro laboratorio durante cinco años y medio y aún eran útiles para detectar glucosa a diferentes concentraciones en diferentes soluciones (0.1 M NaOH y tampón de Krebs).
Métodos
Preparación de las películas α-NiS
Para la fabricación de la película de α-NiS, la condición de síntesis fue un proceso de dos pasos:el primer paso fue la fabricación de la película de nanohojas de níquel [13, 14], y el segundo paso fue el proceso de síntesis de la película de α-NiS por un método de transporte físico de vapor (PVT) para sulfurar la película de nanolamina de níquel [15, 16]. En el primer paso, se sintetizó una película de nanolamina de níquel mediante un método simple de electrodeposición. Se utilizó un ánodo plano de Pt y un cátodo de vidrio de óxido de indio y estaño (ITO), tratados en un proceso de electrodeposición catódica, para la fabricación de la película de nanolaminas de níquel. Se electrodepositaron películas de níquel sobre sustratos de vidrio conductor revestidos con ITO, que se cortaron en un 2 de 0,5 × 1 cm. Talla. Cada uno tenía una resistencia de <15 Ω / cm 2 . Hexahidrato de sulfato de níquel 0,1 M (NiSO 4 .6H 2 O, Sigma-Aldrich, ≥ 98,5%) e hidróxido de sodio 0,05 M (NaOH, SHOWA, 96%) se utilizaron para preparar una solución precursora en agua bidestilada. Usamos la película de depósito de níquel en modo potenciostático. Establecemos el potencial de electrodeposición en 3,0 V CC con una solución de pH 7,7. Se electrodepositaron películas de níquel de alta calidad a 40 ° C durante 10 min. Después de adquirir películas de níquel, las películas de nanolaminas de níquel se recocieron en ampollas de vidrio selladas al vacío con láminas de azufre. Las películas de α-NiS se recocieron a diferentes temperaturas de recocido (300, 400 y 500 ° C) durante 4 h. Queremos confirmar la duración óptima del tiempo de recocido y recocido las películas de α-NiS a una temperatura de recocido de 400 ° C durante diferentes tiempos (3 y 6 h).
Caracterización de la película α-NiS
La morfología de las películas de α-NiS se caracterizó mediante el uso de XRD (SHIMADZU XRD-6000) utilizando radiación de Cu Kα, microscopía electrónica de barrido de vacío variable (VVSEM) (HITACHI S-3000N) y FE-SEM / EDS (HITACHI S-4800) a 3,0 kV. Las propiedades electroquímicas de las películas de α-NiS se midieron utilizando medidas de CV y amperometría con un electrodo de referencia Ag / AgCl mediante un potenciostato (Jiehan, ECW-5000) en una configuración de tres electrodos. La película de α-NiS se evaluó mediante medidas de CV y amperometría en una solución de 15 ml de NaOH 0,1 M con diferentes concentraciones de glucosa. Las medidas de impedancia de las películas de α-NiS se calcularon mediante el uso de una espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) (Zennium IM6) en KCl 0,1 M que contiene Fe (CN) 1,5 mM 6 3− / 4− . La película de α-NiS se evaluó mediante mediciones de CV y amperometría en tampón de Krebs (NaCl 115 mM, KCl 2 mM, NaHCO 3 25 mM , MgCl 2 1 mM , CaCl 2 2 mM , Albúmina de suero bovino al 0,25% [pH 7,4]; equilibrado con 5% de CO 2 ) [17]. Los espectros de absorción de las películas de α-NiS se midieron mediante un espectrofotómetro UV / Visible / NIR (HITACHI U-3501) después de que las películas de α-NiS se dispersaran en agua destilada usando un dispersor supersónico. Los espectros de fotoluminiscencia (PL) se obtuvieron mediante un espectrómetro de fluorescencia (RF-5301PC) con un láser de xenón a temperatura ambiente. Por último, se investigó la estructura cristalina de las nanoesferas de α-NiS mediante el uso de un sistema HR-TEM (JEOL TEM-2010 HR-TEM).
Resultados y discusión
Obtuvimos las películas de nanohojas de níquel mediante el método de electrodeposición. Establecemos la electrodeposición de CC en el potencial de 3,0 V CC y 4,0 V CC. Mantuvimos la solución de galvanoplastia a 40 ° C durante 10 min y observamos la película de níquel electrodepositando sobre el sustrato de vidrio ITO. La Figura 1 muestra los resultados de la electrodeposición de películas de níquel. Como se ve en la Fig. 1a, b, la superficie observada de la película de nanolamina de níquel tenía un tamaño de grano promedio de 0.01–0.3 μm con un potencial de deposición de 3.0 V DC. La sección transversal de la película de nanolamina de níquel con un espesor de aproximadamente 500 nm se mostró en el recuadro de la Fig. 1b. Se observó que en la superficie de la película de níquel, tenía un tamaño de grano promedio de 0,5 a 1,0 μm con un potencial de deposición de 4,0 V CC. La Figura 1d mostró los patrones de XRD para las películas de níquel. Los picos de difracción correspondientes a los patrones de XRD para diferentes películas de níquel se confirmaron por comparación con la tarjeta de la Junta del Comité de Estándares de Difracción de Polvo (JCPDS870712). Por lo tanto, confirmamos que los productos finales eran películas de níquel cuando las películas se observaron en el sustrato de vidrio ITO.
Consideramos que la película de nanohojas de níquel era mejor que la película de níquel para desarrollar la nanoestructura de la película de α-NiS. Sulfuramos las películas de nanohojas de níquel en nuestros experimentos para obtener películas de nano-NiS. Después de que las películas de níquel se recocieran en ampollas de vidrio selladas al vacío, obtuvimos las películas de α-NiS. La Figura 2 mostró los resultados de controlar las diferentes temperaturas de sulfuración para sintetizar películas de α-NiS. Los patrones de XRD de la Figura 2a mostraron que se sintetizaron tres películas de α-NiS a tres temperaturas de recocido diferentes (300, 400 y 500 ° C). En el patrón XRD de cada muestra, observamos que los picos de difracción de las diferentes películas de α-NiS estaban en la misma fase. Los picos de difracción correspondientes a los patrones de XRD de las películas de α-NiS se confirmaron mediante la comparación con las tarjetas del Comité Conjunto de Estándares de Difracción de Polvo (JCPDS750613). Por lo tanto, confirmamos que los productos finales eran películas de α-NiS. La Figura 2b-d mostró las diferentes morfologías de las películas de α-NiS a tres temperaturas de recocido diferentes (300, 400 y 500 ° C) durante 4 h. Los resultados de EDS de películas de α-NiS con los porcentajes en peso (% en peso) de elementos de azufre (S) y níquel (Ni) se muestran en los recuadros de la Fig. 2b – d. La Figura 2b mostró partículas de forma irregular en la superficie de la película de α-NiS a la temperatura de recocido de 300 ° C. Observamos que las partículas tienen aproximadamente 0,5 a 2 μm en la figura 2b. El resultado de EDS de la película de α-NiS a la temperatura de recocido de 300 ° C, 34,99% en peso de S y 65,01% en peso de Ni con una relación molar de 0,99 (S / Ni) se muestra en el recuadro de la Fig. 2b. Observamos partículas en forma de esfera y estructura porosa de α-NiS con un tamaño promedio aproximado de 0.1-0.2 μm en la superficie de la película de α-NiS a la temperatura de recocido 400 ° C en la Fig. 2c. El resultado de EDS de la película de α-NiS a la temperatura de recocido 400 ° C, 35,75% en peso de S y 64,25% en peso de Ni con una relación molar de 1,02 (S / Ni) se muestra en el recuadro de la Fig. 2c. También observamos partículas en forma de cadena de α-NiS con un tamaño promedio aproximado de 1-5 μm en la superficie de la película de α-NiS a la temperatura de sulfuración 500 ° C en la Fig. 2d. El resultado de EDS de la película de α-NiS a la temperatura de recocido de 500 ° C, 36,22% en peso de S y 63,22% en peso de Ni con una relación molar de 1,04 (S / Ni) se muestra en el recuadro de la Fig. 2c. Observamos que las morfologías (partículas de forma irregular, nanoesferas y partículas en forma de cadena) de las superficies de las muestras cambiaban a diferentes temperaturas de recocido (300, 400 y 500 ° C). En general, observamos diferente evolución del crecimiento y formación de nanoestructuras a las diferentes temperaturas de recocido. Los investigadores (Denholme et al.) También presentaron que la temperatura influye en la cinética de crecimiento del NiS 2 las películas controlaban las distintas morfologías por parámetro de temperatura en el sistema Ni-S [15]. Esto se debió a la presión de vapor de S. De manera similar, era lógico que el vapor de S participara en reacciones a través de mecanismos de vapor-sólido o vapor-líquido-sólido en la superficie del metal de Ni en las reacciones de transporte de vapor de S y de Ni. Por tanto, la reacción se llevó a cabo dentro de un sistema cerrado y dependió de la presión de vapor de los reactivos. La presión de vapor dependía de la temperatura de reacción y la relación estequiométrica de los reactivos. Pensamos que las morfologías variables de NiS aumentaron significativamente en la presión de vapor de S a medida que aumentaron las temperaturas con diferentes mejoras de la velocidad de reacción de Ni y S.
También queremos confirmar la duración óptima del tiempo de recocido. Las películas de α-NiS se recocieron a 400 ° C durante otros tiempos (3 y 6 h). Los resultados se muestran en la Fig. 2e. Observamos que los patrones de XRD de las diferentes películas de α-NiS estaban en la misma fase y fueron confirmados por tarjetas JCPDS750613 en el recuadro (arriba a la izquierda) de la Fig. 2e. Observamos que las partículas tenían aproximadamente 0,5-1 μm en la superficie de la película de α-NiS a la temperatura de sulfuración de 400 ° C durante 3 h en el recuadro (arriba a la derecha) de la Fig. 2e. En el recuadro se muestra el resultado de EDS de la película de α-NiS a la temperatura de recocido de 400 ° C, 30,43% en peso de S y 69,57% en peso de Ni durante 3 h con una relación molar de 0,8 (S / Ni). (abajo a la derecha) de la Fig. 2e. Observamos que las partículas eran de aproximadamente 0,5 a 2 μm en la superficie de la película de α-NiS a la temperatura de sulfuración de 400 ° C durante 6 h en el recuadro (abajo a la izquierda) de la Fig. 2e. El resultado de EDS de la película de α-NiS a la temperatura de recocido 400 ° C, 39,92% en peso de S y 60,08% en peso de Ni durante 6 h con una relación molar de 1,21 (S / Ni) se muestra en el recuadro. (abajo a la derecha) de la Fig. 2e. Como se ve en el recuadro (resultado de EDS) de la Fig. 2c, mostró que no había exceso o falta de S para la muestra de 4 h, que estaba cerca de la relación estequiométrica de 1 (S / Ni). Finalmente, la imagen SEM de la Fig.2c que tiene más nanoesferas en la superficie de la película de α-NiS para el tiempo de recocido 4 h se comparó con dos imágenes SEM para diferentes tiempos de recocido (3 y 6 h) con partículas más grandes en los insertos (arriba derecha e inferior izquierda) de la Fig. 2e. Confirmamos que la duración óptima del tiempo de recocido fue de 4 h.
Después de sintetizar películas de nanoesferas de α-NiS, colocamos algunas de las películas de nanoesferas de α-NiS en pequeños recipientes de plástico con cubiertas de plástico en nuestro laboratorio con aire acondicionado durante cinco años y medio. El tiempo de la prueba de preservación para nuestras películas de nanoesferas de α-NiS fue del 1 de agosto de 2011 al 31 de diciembre de 2016. Como se ve en la Fig. 2f, las curvas mostraban la temperatura (16–26 ° C) y la humedad relativa (50–65% ) que se registraron en nuestro laboratorio para la prueba de conservación desde el 1 de agosto de 2011 hasta el 31 de diciembre de 2016. Después de finalizar la prueba de conservación, queríamos confirmar las películas de nanoesferas de α-NiS que todavía tenían las respuestas actuales a diferentes concentraciones de glucosa mediante mediciones de CV y amperometría en una solución en enero de 2017. Examinamos algunos artículos sobre la medición del comportamiento electroquímico de una muestra de NiS para un sensor de glucosa no enzimático. Muchos investigadores midieron las muestras mediante mediciones de CV y amperometría en una solución de NaOH 0,1 M porque compararon los resultados con la misma condición fácilmente [8,9,10,11,12]. La Figura 3 mostró las propiedades de CV y amperometría de las películas de α-NiS. En cuanto al área de trabajo del electrodo fue de 0,2 × 0,5 cm 2 para detectar glucosa en la superficie de la película de nanoesferas de α-NiS en todos los experimentos. La reacción de oxidación-reducción (redox) de las películas de α-NiS se estimó utilizando el método CV mediante un electrodo de referencia Ag / AgCl con un potenciostato. Las características CV de las películas de α-NiS se escanearon entre 0 y 0,8 V durante 1 ciclo mediante un potenciostato. Las muestras se midieron en una configuración de tres electrodos a una velocidad de exploración de 20 mVs −1 . Con respecto a la concentración de NaOH, elegimos 0.1 M para la solución porque vimos la siguiente fórmula (1) que cuanto más OH - aniones que teníamos, más e - aniones en solución [8].
$$ \ mathrm {NiS} + {\ mathrm {OH}} ^ {-} \ leftrightarrow \ mathrm {NiS} \ mathrm {OH} + {\ mathrm {e}} ^ {-} $$ (1)un Tres CV en la imagen:la curva roja mostraba el CV de ITO desnudo; las curvas naranja y verde eran los CV de las películas de α-NiS a diferentes temperaturas de recocido (300 y 500 ° C). Recuadro:CV de ITO desnudo / vidrio. b CV de nano-NiS / ITO en NaOH 0.1 M con diferentes concentraciones de glucosa:(α) 0 μM, (β) 2 μM, (γ) 7 μM, (δ) 10 μM, (ε) 15 μM, (ζ) 20 µM, (η) 30 µM y (θ) 35 µM. Recuadro:arriba a la izquierda:gráfico de la corriente máxima de oxidación frente a la concentración de glucosa; abajo:CV de la película de Ni y la película de nanohojas de Ni. c La película de nanoesferas de α-NiS se evaluó mediante amperometría en NaOH 0.1 M con diferentes concentraciones de glucosa:(α) 1 μM, (β) 2 μM, (γ) 7 μM, (δ) 10 μM, (ε) 15 μM, (ζ) 20 µM, (η) 22 µM, (θ) 25 µM, (ι) 30 µM y (κ) 35 µM. Recuadro:arriba a la izquierda:gráfico de las respuestas actuales frente a las concentraciones de glucosa; abajo:respuesta cronoamperométrica de NiS / ITO en NaOH 0,1 M con glucosa 2 µM y en presencia de dopamina, ácido úrico y ácido láctico 2 µM a un potencial aplicado de 0,6 V CC. d Gráficos de Nyquist de la película de nanolamina de níquel, la película de nanoesfera de α-NiS y las películas de α-NiS a diferentes temperaturas de recocido (300 y 500 ° C) en KCl 0,1 M que contiene Fe (CN) 1,5 mM 6 3− / 4− . e CV de nano-NiS / ITO en Krebs con diferentes concentraciones de glucosa:(α) 0 μM y (β) 20 μM. Recuadro:arriba a la izquierda:CV de ITO / vidrio desnudo. f La película de nanoesferas de α-NiS se evaluó mediante amperometría en tampón de Krebs con diferentes concentraciones de glucosa:(α) 0 μM, (β) 10 μM, (γ) 20 μM, (δ) 30 μM y (ε) 40 μM. Recuadro:superior:gráfico de las respuestas actuales frente a las concentraciones de glucosa
De acuerdo con la fórmula anterior (1), consideramos que cuanto más e - aniones que teníamos en una solución, el valor de corriente más grande se mostró en un potenciostato. Había tres curvas en la Fig. 3a. La curva CV roja del ITO desnudo se mostró en el recuadro de la Fig. 3a. Las curvas CV naranja y verde fueron la reacción redox de las películas de α-NiS a diferentes temperaturas de recocido (300 y 500 ° C). Observamos que las curvas CV no tenían potenciales de reducción negativos en la Fig. 3a. También encontramos que dos películas de α-NiS no tenían ninguna respuesta actual a diferentes concentraciones de glucosa. Como se ve en la Fig.3b, mostró que la película de la nanoesfera de α-NiS se evaluó mediante mediciones de CV en una solución de NaOH 0.1 M con diferentes concentraciones de glucosa (2, 7, 10, 15, 20, 30 y 35 μM) en una velocidad de escaneo de 20 mVs −1 . Obviamente, vimos el potencial redox de la película de nanoesferas de α-NiS en la Fig. 3b. Las curvas redox similares de la película nano-NiS se encontraron en el otro artículo [8]. Los investigadores (Padmanathan et al.2015) informaron que la explicación del mecanismo de reacción fueron las dos ecuaciones redox. (2) y (3) sobre la detección de glucosa en la película nano-NiS. Las dos ecuaciones se muestran a continuación [8]:
$$ {\ mathrm {Ni}} ^ {\ mathrm {II}} \ to {\ mathrm {Ni}} ^ {\ mathrm {II} \ mathrm {I}} + {\ mathrm {e}} ^ {- } $$ (2) $$ {\ mathrm {Ni}} ^ {\ mathrm {II} \ mathrm {I}} + \ mathrm {glucosa} \ to {\ mathrm {Ni}} ^ {\ mathrm {II} } + \ mathrm {gluconolactona} $$ (3)Como se ve en la Fig. 3b, los diferentes valores de corriente de los picos de oxidación se cambiaron a 0,6 V obviamente. Observamos que una línea de puntos tenía una relación lineal sobre las diferentes respuestas actuales de los picos de oxidación contra diferentes concentraciones de glucosa en el recuadro (izquierda) de la Fig. 3b. Las curvas de CV para la película de nanolamina de níquel y la película de níquel también se muestran en el recuadro (parte inferior) de la Fig. 3b. Las respuestas actuales de la curva CV para la película de nanolamina de níquel fueron más grandes que la película de Ni de 0 a 0,8 V en el recuadro (parte inferior) de la Fig. 3b. Consideramos que usamos la película de nanohojas de níquel como un precursor en el proceso de síntesis de la película de nanoesferas de α-NiS, y teníamos más oportunidades de obtener respuestas de corriente más grandes en la curva CV. La Figura 3c mostró que las diferentes respuestas de corriente de la película de nanoesferas de α-NiS fueron para detectar glucosa a diferentes concentraciones (1, 2, 7, 10, 15, 20, 22, 25, 30 y 35 μM) por amperometría. Observamos las diferentes respuestas actuales de las concentraciones de glucosa de 1 a 35 µM con una relación lineal que tiene un coeficiente de correlación de 0,99 en el recuadro (izquierda) de la Fig. 3c. Fue descrito por:
$$ I \ left [{\ mathrm {mAcm}} ^ {- 2} \ left] =0.0084 \ right [\ mathrm {glucosa} \ right] \ upmu \ mathrm {M} +0.2821 $$ (4)El valor de sensibilidad se estimó en 8,4 μA μM −1 cm −2 para la Eq. (4). En el recuadro (parte inferior) de la Fig. .3c. Demostramos que nuestra película de nanoesferas de α-NiS era un sensor de glucosa no enzimático en NaOH 0,1 M con capacidad antiinterferente hacia la dopamina, el ácido úrico y el ácido láctico.
Con respecto a los resultados electroquímicos en las películas de nanoesferas de α-NiS, consideramos que solo una muestra de 400 ° C mostró muchas nanopartículas pequeñas y una estructura porosa en la superficie de la película de nanoesferas de α-NiS en la Fig. 2c. Las nanopartículas más pequeñas y la estructura porosa se depositaron en la superficie de la película de la nanoesfera de α-NiS, por lo que la película de la nanoesfera proporcionó un área de superficie más grande y respuestas más altas en la detección electroquímica. Observamos que las muestras se recocieron a 400 ° C durante 4 h con las respuestas actuales a concentraciones bajas de glucosa. Solo una muestra de 400 ° C que tuvo una buena respuesta de glucosa se debió a muchas nanopartículas pequeñas y una estructura porosa en la superficie de la película de nanoesferas de α-NiS.
La figura 3d mostró que la espectroscopia de impedancia electroquímica (EIS) de películas de α-NiS se detectaba en una solución de KCl 0,1 M (que contenía Fe (CN) 6 1,5 mM 3− / 4− ). Observamos que Warburg ( W ) la impedancia de la película de nanoesferas de α-NiS era mayor que la de otras dos películas de α-NiS. Los elementos del modelo EIS de la película de nanoesferas α-NiS fueron R s =133 Ω, R ct =42,1 Ω, C d =22,1 μF y W =11,7 kΩ. La impedancia electroquímica de la película de nanolaminas de Ni también se mostró en la Fig. 3d, y tenía el valor de impedancia más bajo en estos patrones. También calculamos los valores de nuestro sensor de glucosa no enzimático para estabilidad, desviación estándar (SD) de estabilidad y reutilización (ver Tabla 1). A partir de los valores de la SD de estabilidad en la Tabla 1, observamos que el valor de estabilidad promedio (0.011 mA / min) de la medición 14 veces fue mayor que el valor de estabilidad promedio (0.006 mA / min) de la medición 13 veces. Creíamos que el valor numérico de reutilización era aproximadamente 13 (SD ≤ 0,002 mA / min).
Después de finalizar la medición del comportamiento electroquímico de la muestra de NiS en NaOH 0,1 M, también examinamos muchos artículos para determinar una condición fisiológica. Esos investigadores utilizaron diferentes soluciones, como solución salina tamponada con fosfato (PBS), tampón de unión a anexina V, solución aECF y tampón de Krebs para la aplicación de cultivo celular [17, 18, 19, 20, 21]. Algunos investigadores seleccionaron tampón de Krebs como tampón de cultivo celular a baja concentración de glucosa [20, 21]. El rango lineal de nuestra película de nanoesferas de α-NiS para detectar la consagración de glucosa baja fue de 1 a 35 μM en NaOH 0.1 M, por lo que tuvo un significado práctico para nosotros que usar nuestro sensor para detectar la consagración de glucosa baja en tampón de Krebs para una condición fisiológica . La película de nanoesferas de α-NiS se utilizó para detectar glucosa a diferentes concentraciones en tampón de Krebs. Usamos nuestra película de nanoesferas de α-NiS para detectar las diferentes concentraciones de glucosa (0 y 20 μM) por voltamograma cíclico (CV) en tampón de Krebs (115 mM NaCl, 2 mM KCl, 25 mM NaHCO 3 , MgCl 2 1 mM , CaCl 2 2 mM , Albúmina de suero bovino al 0,25% [pH 7,4]; equilibrado con 5% de CO 2 , ajustado a pH 7,4 con NaOH 0,01 M) [20]. Como se ve en el recuadro de la Fig. 3e, mostraba la curva CV de fondo de la ITO desnuda. La Figura 3e también mostró las curvas CV del electrodo de NiS / ITO en tampón de Krebs que contiene 0 y 20 µM de glucosa. Observamos las curvas CV con diferentes respuestas de corriente cercanas a 0,6 V obviamente. Como se ve en la Fig.3f, la película de la nanoesfera de α-NiS se evaluó mediante amperometría en tampón de Krebs (ajustado a pH 7,4 con NaOH 0,01 M) para detectar diferentes concentraciones de glucosa:(α) 0 μM, (β) 10 μM, (γ ) 20 µM, (δ) 30 µM y (ε) 40 µM. La figura insertada muestra el gráfico de la corriente máxima de oxidación frente a la concentración de glucosa. En el recuadro (superior) de la Fig. 3f se mostró una curva de la respuesta amperométrica que demostraba una relación lineal con un coeficiente de correlación de 0,99. Fue descrito por I [μAcm −2 ] =0,0004 [glucosa] μM + 0.0638.
La Figura 4 mostró los espectros de fluorescencia y absorción UV / Visible / NIR. Registramos la absorción UV / Visible / NIR de las películas de α-NiS en el rango espectral de 300-800 nm (Fig. 4a-c) para diferentes temperaturas de recocido (300, 400 y 500 ° C). Para determinar la brecha de energía ( E g ) de las nanoesferas, la siguiente dependencia del coeficiente de absorción ( α ) en la ecuación de energía de fotones [22]:
$$ \ alpha hv =A {\ left (hv- {E} _ {\ mathrm {g}} \ right)} ^ m $$ (5)donde E g era la brecha de energía, A era la constante que tenía valores separados para diferentes transiciones, hν era la energía del fotón, y m fue un exponente que asumió los valores 1/2, 3/2, 2 y 3 que estaban interrelacionados con la naturaleza de la transición electrónica. Fue responsable de la absorbancia. Mostró el ( αhν ) 2 contra hν grafica en el recuadro de la Fig. 4a-c. Cuando m =1/2, estos espectros de absorción de películas de α-NiS permitieron los valores adecuados para la transición directa. Como se ve en el recuadro de la Fig. 4a-c, estimamos tres brechas de energía ( E g ) valores (1,08, 1,8 y 0,66 eV) de las películas de α-NiS. Usamos líneas de puntos para ajustar las curvas de 0.6 a 2.8 eV en el recuadro de la Fig. 4a-c. Como se ve en el recuadro de la Fig. 4a-c, también observamos que la brecha de energía más alta ( E g ) de película de nanoesfera de α-NiS fue de aproximadamente 1,8 eV a la temperatura de recocido de 400 ° C. Este estudio también utilizó equipo de fluorescencia para investigar las propiedades ópticas de las muestras. Investigadores anteriores se centraron en los espectros de fluorescencia de las partículas de α-NiS que estaban influenciadas por las diferentes fases, formas, estructuras y la relación superficie / volumen [23]. Como se ve en la Fig. 4d, observamos los espectros de fluorescencia de películas de α-NiS que tienen emisiones ultravioleta a diferentes temperaturas de recocido (300, 400 y 500 ° C). Los espectros PL de las muestras mostraron los picos de emisión nítidos a 448 nm y los picos de emisión a 369 nm (excitados en λ ex =277 nm) [23, 24]. De acuerdo con los resultados sobre las propiedades ópticas de nuestras películas de α-NiS, consideramos que diferentes temperaturas de recocido tenían la posibilidad de obtener un tamaño de grano diferente en la película de NiS. Con respecto a las nanopartículas que exhiben confinamiento cuántico, el aumento de tamaño de las nanopartículas influyó en la disminución de la banda prohibida con la temperatura de 400 a 500 ° C [25]. Las propiedades ópticas del NiS cambiaron con diferentes tamaños de grano, por lo que las propiedades ópticas del NiS cambiaron significativamente con diferentes temperaturas [25]. Las diferentes propiedades ópticas de la película de NiS de manera significativa con diferentes temperaturas deberían deberse a que exhibe un efecto de tamaño, disminuyendo el tamaño de partícula influenciado en la banda prohibida.
Consideramos enfocar el análisis HR-TEM en una película de nanoesferas de α-NiS porque obtuvimos muchas nanoesferas de α-NiS para los sensores de glucosa no enzimáticos a la temperatura de recocido de 400 ° C. Como se ve en la Fig. 5, observamos que las nanoesferas de α-NiS se templaron a 400 ° C durante 4 h. La información sobre la microestructura de la nanoesfera de α-NiS preparada se obtuvo mediante HR-TEM. La Figura 5a, b reveló imágenes HR-TEM de las nanoesferas. El diámetro de la nanoesfera era de 150 a 250 nm. La imagen de la Figura 5c HR-TEM también mostró franjas de celosía claras con un espacio intermedio de 0,7786 nm que correspondían a la distancia entre dos planos adyacentes (101) de la nanoesfera α-NiS. La Figura 5d mostró un patrón SAED de la nanoesfera, y las manchas del anillo de difracción se indexaron a (101) de la nanoestructura de α-NiS.
Conclusión
En resumen, las películas de nanoesferas de α-NiS se investigaron utilizando equipos XRD, VVSEM, FE-SEM, EDS, EIS, UV, PL y HR-TEM. Observamos que la película de nanoesferas de α-NiS se formó controlando la temperatura de recocido a 400 ° C durante 4 h en ampollas de vidrio selladas al vacío. La brecha energética ( E g ) de la película de nanoesfera de α-NiS fue de aproximadamente 1,8 eV. Después de preservar nuestras películas de nanoesferas de α-NiS en nuestro laboratorio durante cinco años y medio, observamos que las películas de nanoesferas de α-NiS todavía tenían las respuestas actuales a diferentes concentraciones de glucosa mediante mediciones de CV y amperometría en diferentes soluciones (0.1 M NaOH y Krebs buffer). El rango lineal de detección de glucosa fue de 1 a 35 µM en NaOH 0,1 M. Para una condición fisiológica, el rango lineal de detección de glucosa fue aproximadamente de 0 a 40 μM en tampón de Krebs.
Abreviaturas
- CV:
-
Voltamograma cíclico
- EDS:
-
Espectrómetro de dispersión de energía
- FE-SEM:
-
Microscopía electrónica de barrido por emisión de campo
- HR-TEM:
-
Microscopía electrónica de transmisión de alta resolución
- NiS:
-
Sulfuro de níquel
- PL:
-
Fotoluminiscencia
- PVT:
-
Transporte de vapor físico
- SD:
-
Desviación estándar
- UV / Visible / NIR:
-
Ultravioleta / visible / infrarrojo cercano
- VVSEM:
-
Microscopía electrónica de barrido al vacío variable
- wt%:
-
Porcentaje en peso
- XRD:
-
Difracción de rayos X
Nanomateriales
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