Hexion completa el Centro de desarrollo de aplicaciones con sede en Shanghái

Fuente | Hexión

Hexion Inc. (Columbus, Ohio, EE. UU.) Ha anunciado la finalización de la construcción de su nuevo Centro de desarrollo de aplicaciones (ADC) en Shanghai como parte de sus esfuerzos globales para fortalecer aún más sus capacidades de servicios técnicos y de investigación y desarrollo. El nuevo ADC de 4.800 metros cuadrados apoyará el desarrollo de nuevos productos y la colaboración del cliente para acelerar el crecimiento de los revestimientos a base de agua y las aplicaciones compuestas.

“El nuevo ADC es otro ejemplo de nuestro compromiso continuo de invertir estratégicamente en nuestra huella de I + D para aumentar las oportunidades de innovación y estimular el crecimiento”, dice Craig A. Rogerson, presidente y director ejecutivo. "Con los líderes comerciales y de I + D trabajando en mayor proximidad, aprovecharemos sus diversas habilidades en un entorno tecnológico de clase mundial ... la inversión también demuestra nuestro compromiso continuo de incorporar principios de sostenibilidad en nuestras iniciativas de I + D y desarrollo de productos".

Según Rogerson, Hexion espera que el nuevo ADC fortalezca la posición de liderazgo de la empresa en el mercado chino para aplicaciones de energía eólica mediante el desarrollo de soluciones de próxima generación basadas en los sistemas epoxi EPIKOTE y EPIKURE. El ADC también apoyará la innovación adicional basada en los sistemas de resina EPIKOTE y EPONOL de Hexion para aplicaciones automotrices.

Otras soluciones centradas en el medio ambiente que se espera que sigan creciendo con el apoyo de la ADC incluyen:

• El sistema NextGen Epoxy Waterborne, que ofrece un rendimiento de recubrimiento comparable al de los sistemas a base de solventes, al tiempo que proporciona compuestos orgánicos menos volátiles
• Cardura glicidil éster, para la producción de resinas acrílicas de poliol a base de agua y de sólidos ultra altos
• Ésteres de vinilo VeoVa, una gama de monómeros especiales que permiten resinas asequibles para revestimientos protectores de alto rendimiento sin isocianato 1K.